Influência da técnica de deposição de Filmes Eletrocrômicos de WO3
Date
2024-09-09Metadata
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Este trabalho consiste no estudo da caracterização e análise das propriedades
ópticas, estruturais, morfológicas e eletroquímicas dos filmes finos de trióxido de
tungstênio (WO3 e WO3 dopado com ácido oxálico) em substrato ITO, para aplicação
como eletrodo de trabalho em dispositivos eletrocrômicos. Janelas inteligentes,
desenvolvidas a partir de vidros eletrocrômicos, minimizam o consumo de energia de
uma edificação, proporcionando ao usuário o controle de quando permitirá ou não, a
passagem da radiação solar, alterando suas propriedades ópticas (coloração) através
da aplicação de um potencial elétrico, podendo ser revertido invertendo a polarização
deste potencial. O filme fino foi produzido através de diferentes técnicas de deposição:
dip-coating e spin-coating. As soluções de WO3 e WO3 dopado com ácido oxálico,
foram preparadas pelo processo sol-gel. Após a preparação, as soluções precursoras
foram depositadas sobre substratos ITO, previamente limpos, através das técnicas
dip-coating e spin-coating para a confecção dos filmes finos. As caracterizações foram
realizadas através de técnicas eletroquímicas como voltametria cíclica,
cronoamperometria, cronocoulometria e espectroscopia de impedância eletroquímica.
As informações morfológicas, estruturais e ópticas foram extraídas por meio de
microscopia de força atômica (AFM), por difração de raios-X e por espectroscopia UV Vis. Ao final, o comportamento desses filmes eletrocrômicos de WO3 puro e o dopado
com ácido oxálico obtidos através dos diferentes métodos de deposição, foram
comparados e avaliados.