A influência da velocidade de deposição em medidas eletroquímicas de filmes finos de MoO3.

dc.creator	Krüger, Luana Uszacki
dc.creator	Cholant, Camila Monteiro
dc.creator	Balboni, Raphael Dorneles Caldeira
dc.creator	Shneider, Érika Vasques
dc.creator	Avellaneda, César Antônio Oropesa
dc.date.accessioned	2025-10-11T11:19:42Z
dc.date.available	2025-10-11T11:19:42Z
dc.date.issued	2020
dc.identifier.citation	KRÜGER, Luana Urszacki et al. A influência da velocidade de deposição em medidas eletroquímicas de filmes finos de MoO3. In: ENCONTRO DE PÓS-GRADUAÇÃO, 22, 2020. Anais... Pelotas: UFPel, 2020.	pt_BR
dc.identifier.uri	http://guaiaca.ufpel.edu.br/xmlui/handle/prefix/18003
dc.description.abstract	Este trabalho busca aprimorar rotas eficazes e comprovar, através de medidas eletroquímicas, a interferência que a velocidade de deposição e a espessura por esta produzida, possuem com relação à qualidade de um filme eletrocrômico.	pt_BR
dc.language	por	pt_BR
dc.publisher	UFPel	pt_BR
dc.rights	OpenAccess	pt_BR
dc.subject	Filme eletrocrômico	pt_BR
dc.subject	Medidas eletroquímicas	pt_BR
dc.subject	Velocidade de deposição	pt_BR
dc.subject	Trióxido de molibdênio	pt_BR
dc.title	A influência da velocidade de deposição em medidas eletroquímicas de filmes finos de MoO3.	pt_BR
dc.type	conferenceObject	pt_BR
dc.rights.license	CC BY-NC-SA	pt_BR